近日，美国商务部发布公告，宣布将36家中国高科技企业及研发机构列入美出口管制“实体清单”，继续扩大对中国半导体产业的打击。消息一出，很多人便注意到了国内知名存储芯片公司长江存储，但同时大家可能忽略了名单中另一家重点企业--上海微电子。 上海微电子--中国光刻机产业之光 很多人可能不知道，上海微电子是目前中国境内最先进的光刻机企业，它生产的600系列光刻机最高工艺能达到180nm，在整个国内市场上占据很高的市场份额。 除此之外，上海微电子的6000系列光刻机技术也很成熟，它的制程工艺达到了90nm，对于国产中低端芯片的研发制造有着巨大助力。因此可以说上海微电子在中国光刻机产业中的地位相当高，类似于芯片代工企业中的中芯国际，都是各自领域中的重要存在。 国产光刻机研发进度受拖累 虽然上海微电子是国内最大的光刻机企业之一，但还与ASML等国际光刻机巨头有很大差距，一些关键零件依旧受制于他国。 据悉，上海微电子光刻机的部分主要零部件来自MKS等美国零部件供应商，而这些零部件国产化率又很低。再加上零部件是个非常考验基础研究和长期主义的小而美赛道，其技术壁垒极高，国内短期内取代美国供应商的可能性几乎为零。 而如今美国却正式下令封杀上海微电子，不让上海微电子买到任何美国的技术、设备和原材料，这将给国产光刻机的研发进展蒙上阴影。要知道早在2020年，就媒体报道，上海微电子披露，将在2021-2022年交付第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机，但到现在2022年已经接近尾声，没有等来上海微电子交付的第一台28nm工艺的国产的沉浸式光刻机消息，却等来了上海微电子被美国彻底封杀的消息，这不免让人心酸。 不得不说，美国的这招果然够毒，封杀中国最大的光刻机企业之一，让国产光刻机研发进度受拖累，而没有光刻机，国产芯片也必然会大受影响，或许最艰难的时刻已经到了。值得注意的是，这不是国产光刻机产业第一次被打压了！ 国产光刻机产业多次被打压 ASML CEO曾表示，中国举国之力也造不出EUV光刻机，即便公开图纸，也没人能造出；日本光刻胶供应商JSR公司的CEO埃里克•约翰逊，也指出中国根本无法掌握基于极紫外光刻技术，或者是被称作EUV光刻技术的复杂芯片制造工艺。 以上两家企业CEO明里暗里的意思都看不起中国制造光刻机的能力。但实际上，中国在光刻机研发制造上起步并不晚，曾经一度和国际顶尖的光刻机制造水平也相差不大。 早在1966年，一零九厂和上海光学仪器厂就曾联手研制出了国内历史上第一台65型接触式光刻机，研制成功后由上海无线电专用设备厂投入量产。而到了1985年，由电子部45所成功研发并制造出了国内第一台分布式光刻机：BG-101！值得一提的是，此时中国光刻机的制造水平与国际顶尖水平的差距不到7年。 可惜到了1996年就变了，当时30多个国家共同签署了”瓦森纳协定“！而根据协定，要求对中国出口的半导体技术及光刻机设备，要比同期国际最先进技术落后两代。此外，彼时中国没有多余资金用在光刻机的自主研发上，这就导致与国外的差距再次被无限拉开，再加上近年来美国对上海微电子等国产光刻机企业的无理打压，国产光刻机技术似乎已经到了无法追赶国际顶尖水平的地步了。 信息来源：智能制造 |
